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ICP-MS检测粒状多晶硅中杂质元素
  • ISSN:3041-0673(Print)3041-0681(Online)
  • DOI:10.69979/3041-0673.25.07.043
  • 出版频率:月刊
  • 语言:中文
  • 收录数据库:ISSN:https://portal.issn.org/ 中国知网:https://scholar.cnki.net/journal/search

ICP-MS检测粒状多晶硅中杂质元素  

董永鸽 王春静通讯作者  

陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司,陕西省榆林市,719000;  

摘要:本文使用ICP-MS对粒状多晶硅中杂质元素进行检测,探索了粒状多晶硅前处理条件:使用HF挥硅处理,加入1ml2.5g/L甘露醇溶液抑制硼元素的损失,消解温度为170℃;确定了ICP-MS的主要工作参数和工作条件。确定了检测限,加标回收率及相对标准偏差(RSD)。该方法准确快速,易于操作。  

关键词:粒状多晶硅;ICP-MS;硼元素;杂质含量  

参考文献  

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